一是光刻机。 其实66年国内就研制出了接触式光刻机。 优缺点十分明显。 优点是能够保证高精度和高效率，同时可以根据生产需求进行灵活调整。 但缺点是成本非常高，而且由于涂覆光刻胶的图片与掩膜的接触会产生缺陷，每一次接触过程都会在原片和掩膜上造成一定缺陷，这就导致该设备职能用于能容忍较高缺陷水平的器件研究。 这就很致命。 所以她打算先把投影式光刻系统弄出来再说。 一是超能计算机。 目前国内还没有。 甚至想要计算什么数据，还要花费巨额费用找漂亮国来做。 每一次，漂亮国都会狮子大开口，甚至提出一系列不平等条件。 所以，她一定要研制种花国自己...